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【PF200原位刮涂】?jī)?yōu)化薄膜形貌,PSC效率達(dá)24.31%,600小時(shí)穩(wěn)定性89%!

更新日期:2025-12-23       點(diǎn)擊次數(shù):208
【PF200原位刮涂】?jī)?yōu)化薄膜形貌,PSC效率達(dá)24.31%,600小時(shí)穩(wěn)定性89%!
中科院化學(xué)所 X 雷博科儀

    相較于旋涂法,刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差,影響太陽能模塊(PSM)的效率和穩(wěn)定性。為此,中科院化學(xué)所團(tuán)隊(duì)在鈣鈦礦前驅(qū)體中引入聚合物添加劑,定制橢圓膠體結(jié)構(gòu)(在實(shí)驗(yàn)中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設(shè)備),成果發(fā)表于《Advanced Materials》。

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01
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PF200(原位刮涂)設(shè)備:

一種可以用于同步輻射原位觀測(cè)平臺(tái)的微型涂膜器,推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進(jìn)行涂膜,涂膜高度可調(diào)。


02
研究?jī)?nèi)容
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a) 鈣鈦礦薄膜刀片涂覆工藝的示意圖。

b) 濕膜中橢圓球形膠體和 c) 球形膠體的堆疊示意圖及相應(yīng)的鈣鈦礦薄膜。

d) 橢圓球形膠體和 e) 球形膠體鈣鈦礦前驅(qū)液的 SAXS 光譜。

f) 橢圓球形膠體前驅(qū)液和 g) 球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜形成過程的原位 GIWAXS 光譜。

h) 橢圓球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜和 i) 球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜的 (110) 面相關(guān)方位角演變,由原位 GIWAXS 光譜積分得到。

j) 橢圓球形膠體前驅(qū)液和 k) 球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜經(jīng)過熱退火后的 2D-GIWAXS 圖案。

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a) 刀片涂覆過程中平均晶粒尺寸的演變。

b) 鈣鈦礦成核和生長(zhǎng)模型的 LaMer 示意圖。

c) 鈣鈦礦前驅(qū)液中的 DLS 直徑。

d) 基于不同聚合物濃度的刀片涂覆鈣鈦礦薄膜的 PSCs 的 PCE。

e) 不同聚合物濃度鈣鈦礦薄膜的 (100) 散射特征的方位角積分。

f) 球形膠體前驅(qū)液和 g) 橢圓球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜的橫截面 SEM 圖像。

h) 球形膠體、i) 橢圓球形膠體和 j) 過大橢圓球形膠體的膠體沉積模擬。

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a) 由橢圓球形膠體和球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜的紫外-可見光和 PL 光譜。

b) 由橢圓球形膠體和球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜的 TRPL 光譜。

c) 用于 SCLC 分析的由橢圓球形膠體和球形膠體前驅(qū)液涂覆的鈣鈦礦薄膜的空穴-only 和 d) 電子-only 二極管的暗 J-V 特性。

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a) 刀片涂覆的 PSC 的橫截面 SEM 圖像。

b) PSC 的 J-V 特性。

c) EQE 光譜。

d) PSC 在 MPP 處的穩(wěn)態(tài)光電流和效率。

e) PSM 的光學(xué)照片。

f) PSM 的 J-V 特性。

g) PSM 的存儲(chǔ)穩(wěn)定性。

h) PSM 的 MPP 跟蹤穩(wěn)定性。


03
研究成果

薄膜形貌優(yōu)化后,器件性能顯著提升:0.09 cm2 PSC效率24.31%,13.94 cm2 PSM認(rèn)證效率21.37%,且600小時(shí)工作后保持89%初始效率。



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